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時間:2023-09-08等離子增強化學氣相沉積PECVD的常見應用有哪些?2025-08-24
等離子增強化學氣相沉積PECVD是一種廣泛應用于半導體制造和薄膜沉積技術中的重要工藝。它通過在低溫下利用等離子體激發(fā)反應氣體,以生成所需的薄膜材料。相比傳統(tǒng)的熱化學氣相沉積(CVD)工藝,PECVD能夠在較低的溫度下實現較高的沉積速率,并且...分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE的具體工作過程分析2025-07-20
分子束外延是一種用于制造高質量單晶薄膜和量子結構的技術。MBE技術的核心在于通過在高真空環(huán)境中,將單一元素或化合物的分子束投射到襯底表面,形成薄膜。廣泛應用于半導體、光電子學、磁學以及超導材料的研究與生產中。MBE系統(tǒng)具有高精度控制、優(yōu)秀的...激光直寫光刻機能夠實現非常精細的圖案加工2025-06-22
激光直寫光刻機是一種先進的光刻技術設備,廣泛應用于集成電路(IC)制造、微電子器件的制作及納米加工等領域。與傳統(tǒng)的光刻機相比,能夠通過激光直接在基底上寫入圖案,具有更高的分辨率和靈活性,尤其適用于小批量、高精度的生產需求。激光直寫光刻機的基...脈沖激光沉積鍍膜機PLD常見的應用有哪些?2025-05-25
脈沖激光沉積鍍膜機PLD是一種廣泛應用于薄膜制備的技術。它利用高能脈沖激光照射到靶材表面,將靶材蒸發(fā)或激發(fā)成等離子體,進而沉積到基底表面,形成薄膜。PLD技術因其高精度、高質量的薄膜制備能力,廣泛應用于材料科學、光電器件、薄膜太陽能電池、傳...深圳市矢量科學儀器有限公司
深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。公司目前已授實用新型權利29項,軟件著作權14項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。
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